近日,在第二十六届中国国际工业博览会上,朗道燧岩(上海)科技有限公司(以下简称“朗道燧岩”)携自主研发的极紫外(EUV)光源系统样机首次公开亮相,引发半导体行业广泛关注。
这款展出设备,是目前国内公开披露的研发进度最为领先的国产EUV光源样机,而EUV光源作为高端EUV光刻机的核心核心组件,更是被誉为光刻机的“心脏”,直接决定先进芯片制程的生产能力。
据现场朗道燧岩技术工作人员介绍,本次展出的EUV光源系统整体国产化率高达90%,设备绝大多数核心零部件均实现自主设计、自主研发与自主生产,彻底摆脱了对海外通用零部件的依赖。同时,该设备采用与国际头部领先厂商完全一致的主流技术路线,技术方案成熟、适配性强,可直接应用于半导体先进制程的芯片曝光测试场景,具备极强的实用落地价值。
在半导体产业领域,7nm及以下的先进芯片制程工艺,是高端智能手机、人工智能、超级计算等高端产业的核心基础,而这类先进制程的规模化制造,完全依赖EUV光刻机设备。其中,EUV光源与光学系统、精密工件台并称为EUV光刻机三大核心零部件,是最难突破的关键技术壁垒之一。
长期以来,海外企业凭借数十年的技术积累形成绝对技术垄断,叠加相关设备与技术的出口禁运政策,EUV光刻机及核心EUV光源的技术卡脖子难题,始终是制约我国高端半导体芯片产业自主可控、突破先进制程的核心瓶颈。此次朗道燧岩EUV光源样机的公开亮相,成功填补了国内产业化样机的空白,标志着国产EUV光源技术正式完成从实验室理论研发、试样测试,向工业化、产业化落地跨越的关键一步,为国内EUV全产业链突破奠定了坚实基础。

依托扎实的底层技术积累,朗道燧岩官方正式披露了FlintNano LPP-OXXO低功率EUV光源系统全套核心技术参数,各项性能指标均达到国内同类技术领先水平。具体参数显示:该设备驱动激光功率可达1000W,激光工作频率区间为1至20kHz,光电转换效率突破2%,光源亮度达到100W/mm²sr,稳定EUV输出能量大于15W,设备连续不间断工作时长可突破100小时。
在核心稳定性参数上,设备等离子体工作尺寸精准控制在60μm,等离子体运行稳定性误差控制在3% RMS以内,整体能量输出稳定性误差仅为5%,充分满足芯片曝光测试的精密化、稳定性使用要求。与此同时,企业技术团队透露,定位高端量产应用的FlintMicro-LPP高功率极紫外光源系统,已顺利完成全部原理验证与可行性论证;适配中低端测试、小批量试用的FlintNano-LPP低功率光源系列,已全面完成技术打磨,正式进入商业化产品化落地阶段。
公开资料显示,朗道燧岩成立于2024年,是依托顶尖高校科研成果孵化的硬核科创企业。公司创始人王豪博士带领核心技术团队,深度依托清华大学气体放电等离子体实验室多年积淀的科研成果,聚焦激光诱导等离子体(LPP)EUV光刻光源这一核心赛道持续深耕。
企业核心业务精准聚焦半导体光刻核心领域,专业从事高功率LPP-EUV光源设备的研发、规模化生产与市场销售。该类EUV光源设备不仅是制造5nm、3nm等顶级先进半导体芯片的核心刚需设备,更是支撑国内EUV光刻胶、掩膜检测设备、精密光学配件等全产业链生态完善、迭代升级的核心基础,对国内半导体高端设备国产化替代具有战略性意义。
在资本市场层面,这家新锐半导体科创企业展现出极强的发展潜力与成长速度,成立以来融资进程稳步推进、备受产业资本青睐。2025年10月,公司成功获得张江高科旗下燧玥创投独家天使轮投资,累计融资总额突破千万元量级,同时正式入驻资源密集、产业集聚的上海集成电路设计产业园,依托产业集群优势加速技术转化。
2026年,企业发展持续提速,年初顺利完成天使+轮融资,同年7月再度落地A轮融资,沃衍资本、中芯聚源等国内顶尖半导体产业资本悉数入局。产业资本的加持,不仅为企业技术迭代、产线搭建、人才引进提供充足资金支撑,更带来了丰富的半导体产业链资源、量产经验与市场渠道。
目前,朗道燧岩已构建燧岩、辉光、天算三大核心业务板块,形成“核心设备+核心配件+配套软件”的全链条技术布局,全方位支撑EUV光源技术迭代。其中,燧岩板块专注于核心EUV光源系统的研发与落地,是企业核心主营业务;辉光板块聚焦大功率二氧化碳轴快流激光器的研发生产,解决光源驱动核心硬件难题;天算板块深耕等离子体工业仿真软件研发,通过数字化仿真技术优化设备运行参数、提升稳定性。
据企业官方招聘信息披露,公司在研的高功率短脉冲CO₂激光器、高端等离子体工业仿真软件两大核心项目,是突破高功率、高稳定性、长寿命LPP-EUV光源技术瓶颈的关键,对国产高端EUV光源实现量产商用具有里程碑式的战略意义。
虽然本次EUV光源样机的公开亮相,是国产半导体高端设备领域的标志性突破,但行业产业化落地仍任重道远。朗道燧岩现场技术人员客观表示,当前这款样机距离规模化商业化量产,仍需要3至5年的工程化打磨与迭代优化,现阶段企业面临的核心攻坚难点,集中在光源输出功率升级与设备长期运行稳定性提升两大核心方向。
来源:电子工程专辑