10月13日上午，苏大维格的“SVG微纳光制造卓越创新中心”开工仪式在苏州工业园区新昌路68号项目施工现场举行。

据悉，该中心面向先进封装、新型显示、AR光学等赛道，是苏大维格微纳制造技术平台的重要载体。

图片来源：苏大维格

卓越创新中心是苏大维格2021年定增募投项目之一，投入募集资金3.5亿元，建设内容主要包括建筑工程、设备及实验室等，项目达到预定可使用状态日期为2028年12月31日。根据公司2026年半年报，截至6月30日该项目累计投入3,269.01万元，投资进度为9.34%，公司表示后续将结合自身实际需求适时推进项目建设。

据介绍，卓越创新中心建成后，将承担江苏省重点实验室、微纳光制造先进技术研究院及成果孵化中试基地等功能，聚焦半导体光刻、光学检测、新型显示等领域，开展基础研究、关键技术攻关及创新成果转化。

苏大维格成立于2001年，2012年在深交所创业板上市。通过自主研发激光直写光刻机和纳米压印光刻机，苏大维格建立了覆盖微纳结构设计、原版开发到规模化生产的完整产业链，产品广泛应用于公共安全防伪、新型3D印材、消费电子及汽车微纳新材料等领域，驾驶证、行驶证防伪膜为其独家供应。

回顾2026年，苏大维格在微纳光学主业上动作频频：

1月与语荻光电签署战略合作框架协议，围绕半导体设备精密光学物镜及系统展开合作；直写光刻设备加快向高端掩模制造、CoWoS/CPO等先进封装领域拓展；纳米压印技术持续向AR光波导、光子芯片、光通信器件等方向延伸。

9月，公司宣布挂牌出售反光材料业务资产，进一步聚焦高端光刻与半导体量检测设备、超精密微纳光学器件及材料等核心赛道。

2026年上半年，苏大维格实现营业收入10.35亿元，同比增长5.39%；归母净利润4976.04万元，同比增长62.29%。其中，维普半导体实现营业收入9422.04万元，同比增长524.78%；净利润5068.27万元，同比扭亏。

维普半导体光掩模缺陷检测设备上半年在国内头部晶圆厂持续出货，并首次出口至韩国头部企业工厂。同时，公司开发了面向先进封装的数字化直写光刻样机，并推进暗场晶圆缺陷检测设备研发。

此次卓越创新中心开工，标志着苏大维格在先进封装、新型显示与AR光学方向的研发布局进入新的实施阶段。（LEDinside整理）