10月10日，武汉国创科光电装备有限公司（下文简称“国创科”）喷墨打印制造装备项目二期（简称：N2基地）完成主体结构封顶。

图片来源：国创科

该项目总投资约2亿元，土地面积14767.56平方米；作为国创科产能升级的载体，在扩大现有G4.5和G6H（半尺寸）装备产能的同时，重点研发G6（全尺寸）及8.X代喷印装备，并持续拓展喷印装备在其他领域的应用。项目于2024年12月签约、2025年12月开工，2026年10月10日主体结构封顶，预计2026年12月投入使用。

资料显示，国创科成立于2020年，专注于开发OLED、QLED、Micro-LED、E-paper等相关显示器件喷印制造成套创新工艺、技术与装备，由TCL科技集团、华中科技大学、国家数字化设计与制造创新中心等单位联合组建；其中，TCL科技集团持有其23.6315%股份。

国创科指出，N2基地投用后，将进一步提高国创科喷印装备的生产交付能力，并与武汉N1、广东N3基地联动推进系列化喷印成套装备的开发与交付；此举将更好地满足行业龙头企业建设高世代OLED产线的需求，推动新型显示产业上游关键制造装备自主可控。（集邦Display整理）