8月20日晚间,国内半导体薄膜沉积设备龙头拓荆科技披露2026年半年度报告,交出了一份堪称惊艳的成绩单。财报显示,2026年上半年拓荆科技实现营业收入29.13亿元,较去年同期增加9.59亿元,同比增长49.06%,延续了自2021年以来的增长势头。

利润端的表现更为抢眼。上半年公司实现归母净利润13.43亿元,同比暴增1324.10%;扣除非经常性损益后的净利润为3.67亿元,同比增长861.92%。基本每股收益达到4.77元,同比增长1302.94%。
盈利能力方面,公司上半年毛利率为41.00%,较去年同期提升约9个百分点。加权平均净资产收益率达到18.11%,同比提升16.35个百分点。资产负债率则降至47.85%,较去年同期减少21.23个百分点,财务结构持续优化。
值得关注的是,这是拓荆科技2022年科创板上市以来首次推出中期现金分红方案,拟向全体股东每10股派发现金红利3.5元(含税),合计派发现金红利约1.01亿元。
剖析这份财报,净利润的爆发式增长并非单一因素所致,而是主营业务放量、规模效应释放与非经常性收益共同作用的结果。
从核心业务来看,拓荆科技的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等全系列薄膜沉积设备,以及三维集成键合设备持续取得技术突破,多款机型已实现大规模量产交付。

(拓荆科技产品系列)
在先进逻辑、先进存储、先进封装产线中的导入规模持续扩大,带动主业营收稳步上行。公司表示,其核心产品PECVD系列设备在先进存储、先进逻辑领域的ONO叠层、ACHM系列工艺等产品已进入规模化量产阶段;ALD系列设备在先进存储领域量产规模快速攀升,多台PE-ALD SiO₂、SiCO等工艺设备完成客户验证并实现收入转化。
规模效应的释放进一步增厚了利润。报告期内公司营业成本增幅为29.24%,远低于49.06%的营收增幅,毛利较上年同期增加约5.70亿元。随着生产规模扩大及新产品、新工艺设备实现量产应用,产品单位生产成本有效降低,毛利率同比提升约9个百分点。
此外,非经常性损益对当期利润增幅产生了明显影响。上半年公司交易性金融资产产生的公允价值变动收益较上年同期增加约9.60亿元。尽管归母净利润包含了这部分非经常性贡献,但更能反映核心主业盈利能力的扣非净利润仍实现了861.92%的强劲增长,表明公司主营业务的增长质量同样扎实。
在交出亮眼财报的同时,拓荆科技在技术研发、产能扩张与产业投资方面的布局也值得关注。
研发投入方面,上半年公司研发投入达4.23亿元,同比增长21.09%,占营收比例为14.52%。截至报告期末,公司研发人员达856人,占员工总数的41.78%,累计申请专利2245项。
公司累计出货反应腔超过3800个(含超过480个新型反应腔),进入约100条生产线,设备在客户端产线累计流片量约6亿片,平均机台稳定运行时间超过90%,达到国际同类设备水平。

产品矩阵上,拓荆科技已形成覆盖PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等全系列薄膜沉积设备,同时拓展至三维集成领域,推出晶圆对晶圆混合键合、芯片对晶圆混合键合、熔融键合等先进键合设备及配套量检测设备。
三维集成设备被视为公司的第二增长曲线,可广泛应用于高带宽存储器(HBM)、3D NAND、图像传感器(CIS)、Chiplet等前沿领域。
产能建设方面,公司募投项目"高端半导体设备产业化基地建设项目"(沈阳二厂)已完成主体结构封顶,预计于2028年投入使用,规划总建筑面积超15万平方米。
产业资本布局同步落地。8月20日,拓荆科技公告其全资子公司上海岩泉科技拟出资5亿元,以有限合伙人身份入股长智瀚海私募基金,投资完成后持有基金约9.70%份额。
该基金主要投向集成电路产业链股权投资项目,是公司依托产业基金平台挖掘上下游优质项目、完善产业生态布局的重要举措。本次交易涉及与关联方中微半导体共同投资,尚需提交股东会审议。
此外,拓荆科技此前推进的46亿元定增已顺利完成,国家集成电路产业投资基金三期认购8.5亿元,易方达基金与瑞银集团等国内外顶级机构也纷纷入局。
公司还拟收购半导体同赛道标的无锡尚积,其主营PVD、刻蚀设备,收购完成后可进一步完善产品矩阵,覆盖全品类薄膜沉积设备。
来源:电子工程专辑